アルミナセラミック基板
アルミナセラミック基板薄膜リソグラフィー技術に基づく回路処理にマイクロメートルレベルの精度で使用できます。多くの受動デバイスは、この技術に基づいて設計できます。酸化アルミニウムセラミック基板一般的なPCB基板に比べて誘電率が比較的高いため、設計されたデバイスは小型で、さまざまなコンポーネントモジュールの小型化の開発傾向において大きな利点があります。
アルミナセラミック基板
アルミナセラミック基板薄膜リソグラフィー技術に基づく回路処理にマイクロメートルレベルの精度で使用できます。多くの受動デバイスは、この技術に基づいて設計できます。酸化アルミニウムセラミック基板一般的なPCB基板に比べて誘電率が比較的高いため、設計されたデバイスは小型で、さまざまなコンポーネントモジュールの小型化の開発傾向において大きな利点があります。